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用磁控反应溅射法加退火工艺在石英玻璃上制备出具有相变特性的二氧化钒薄膜，通过XRD、SEM和波长200～2500nm的光学透过率的测试对薄膜的结构和特性进行分析，研究退火对薄膜的结构和光电特性的影响。
二氧化钒薄膜退火特性研究
【摘 要】
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用磁控反应溅射法加退火工艺在石英玻璃上制备出具有相变特性的二氧化钒薄膜，通过XRD、SEM和波长200～2500nm的光学透过率的测试对薄膜的结构和特性进行分析，研究退火对薄膜的结
【机 构】
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兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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2009年1期
【基金项目】
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基金项目：总装备部预研课题项目（编号：51318060208）资助.
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