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采用恒电流技术于室温条件下直接在金属钼片上制备白钨矿结构的SrMoO4薄膜,控制电化学反应的工艺条件为电流密度为1 mA/cm2、电解液的pH值为13、电化学处理时间为1 h,SEM和XRD分析结果表明制备的SrMoO4薄膜为表面均匀致密且平均粒径为2 μm的四方晶系单相薄膜.
室温电化学方法制备SrMoO4薄膜
【摘 要】
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采用恒电流技术于室温条件下直接在金属钼片上制备白钨矿结构的SrMoO4薄膜,控制电化学反应的工艺条件为电流密度为1 mA/cm2、电解液的pH值为13、电化学处理时间为1 h,SEM和XR
【机 构】
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四川师范大学
【出 处】
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四川师范大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2002年5期
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