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硼是非常有潜力的聚变堆第一壁涂层材料。对氢同位素在硼膜中的滞留和释放性能已经作了大量研究。本文用X射线电子能谱（XPS）和热解释谱（TDS）方法研究了注入在表面含氧的硼膜中氘的行为。
注入在表面含氧的硼膜中氘的行为研究
【摘 要】
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硼是非常有潜力的聚变堆第一壁涂层材料。对氢同位素在硼膜中的滞留和释放性能已经作了大量研究。本文用X射线电子能谱（XPS）和热解释谱（TDS）方法研究了注入在表面含氧的硼膜中氘
【机 构】
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不详,日本静冈大学、理学部放射化学研究室,日本东京大学放射同位素中心,日本核融合研究所、聚变工程研究中心
【出 处】
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核工业西南物理研究院年报
【发表日期】
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2004年1期
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