【摘 要】
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旋转圆盘电极动电位扫描 (RRDE)、交流阻抗 (EIS)、原子力显微镜 (AFM )等方法研究氯离子与添加剂AQ对酸性镀铜电沉积过程的影响 ,从沉积机理的角度解释氯离子必不可少的原因
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旋转圆盘电极动电位扫描 (RRDE)、交流阻抗 (EIS)、原子力显微镜 (AFM )等方法研究氯离子与添加剂AQ对酸性镀铜电沉积过程的影响 ,从沉积机理的角度解释氯离子必不可少的原因。结果表明 ,加入的氯离子改变了吸附络合物的放电形式 ,表现在氯离子通过离子桥机理形成三维网状结构的 [Cl…AQCu(I)…Cl]放电以阻碍整个放电过程 ,增加反应电阻 ,从而使镀层表现出很好的性能
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