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目的
观测经枕下乙状窦后入路手术路径中，显微镜下磨除内听道后壁所涉及的重要解剖结构及相关解剖学参数，以指导术中安全磨除内听道后壁。
方法模拟枕下乙状窦后入路，对6具(12侧)国人湿性头颅标本显微镜下行磨除内听道后壁，以内听道内口后缘中点(P点)作为参照点，分别测量P点至弓状隐窝、后半规管、共脚、内听道底、前庭导水管外口、颈静脉孔的最短距离，对这些结构拍照记录，所得测量结果行统计学处理。
结果以内听道后壁作为参照平面，测得内听道干与后壁平面所呈夹角为47.3°±17.2°。以P点作为参照点，测得P点至弓状隐窝的最短距离(4.10±0.60)mm，P点至后半规管最短距离(7.39±0.44)mm，P点至共脚的最短距离(8.09±0.47)mm，P点至内听道底距离(9.08±0.59)mm，P点至前庭导水管外口(10.44±0.73)mm，P点至颈静脉孔最短距离(7.35±1.09)mm。
结论枕下乙状窦后入路磨除内听道后壁，其磨除长度不应超过7 mm，可减少半规管及共脚的损伤概率。熟悉磨除内听道后壁过程中容易损伤的结构，可避免损伤半规管、颈静脉球、前庭导水管外口及内淋巴囊等重要解剖结构。