【摘 要】
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采用超临界气体抗溶剂（GAS）技术的半连续-静态工艺制备出平均粒径721.9nm的亚微米级ε型六硝基六氮杂异戊兹烷（CL-20）,探讨了工艺条件对CL-20粒径和晶型的影响,测试了CL-20细化前
【机 构】
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中北大学地下目标毁伤技术国防重点学科实验室,军械工程学院博士后工作站
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采用超临界气体抗溶剂（GAS）技术的半连续-静态工艺制备出平均粒径721.9nm的亚微米级ε型六硝基六氮杂异戊兹烷（CL-20）,探讨了工艺条件对CL-20粒径和晶型的影响,测试了CL-20细化前后的冲击波感度和撞击感度。得到制备亚微米级ε型CL-20的最佳工艺条件为：压力平均升高速率4.0MPa/min,溶液初始浓度8g/100mL,系统压力10.5MPa,系统温度50℃。亚微米级ε型CL-20冲击波感度的隔板值降低58.6%,撞击感度的特性落高值提高84.1%。
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