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利用PIV（Particle image velocimetry）光学测量系统，在雷诺数分别为7767和11650时，实验研究了磁场对绕流圆柱的自由表面流动的影响．实验研究结果表明，磁场使边界层内的无量纲平均速度分布偏离对数分布，尾迹变窄变短，分离点向后移；当雷诺数增加到11650时，在相同磁场强度作用下，磁场的影响减弱，从而使边界层内的无量纲平均速度分布偏离对数分布的程度减小．