【摘 要】
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利用射频磁控共溅射方法,通过改变Nd靶溅射功率,制备了一系列Ta/Ndx（FeCo）100-x/Ta纳米薄膜。研究了其结构和磁性随Nd含量和真空磁场退火温度（T）的变化关系。X射线衍射研究表明制
【机 构】
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兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室
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利用射频磁控共溅射方法,通过改变Nd靶溅射功率,制备了一系列Ta/Ndx（FeCo）100-x/Ta纳米薄膜。研究了其结构和磁性随Nd含量和真空磁场退火温度（T）的变化关系。X射线衍射研究表明制备态的薄膜为非晶态,随着退火温度的升高,逐渐析出Fe-Co纳米晶,随T的进一步升高,FeCo纳米晶粒逐渐变大,而且在薄膜中生成了FeCoNd合金纳米晶。利用振动样品磁强计研究了纳米薄膜的静态磁性,结果表明,饱和磁化强度随着Nd含量的升高而降低。经真空磁场热处理的样品都表现出很好的面内磁各向异性,在Ta/Nd20（F
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