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现有用于批量复制的微加工技术较难用于加工复杂的三维图形元件（如微凹凸面镜、。微锥形齿轮等）。主要原因是：１．只能加工简单三维图形；２．只能控制刻蚀深度，刻蚀后的表面仍保留着刻蚀前的表面的粗糙度。针对上述问题，本课题组首先提出用于三维超微图形复制加工的约束刻蚀剂层技术（ＣｏｎｆｉｎｅｄＥｔｃｈａｎｔＬａｙｅｒＴｅｃｈｎｉｑｕｅ，简称ＣＥＬＴ），该技术具有距离选择性并能控制保留量，可望用于批量复制加工微米乃至纳米级的复杂三维图形元件。