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本文采用导模数值计算法对ＭＭＩ（多模干涉）型光功分器ＳＩＥ干涉区内的导模进行计算并对输出波导位置进行优化，证明在一定条件的弱限制下器件的插入损耗和输出均匀度均超过强限制的情况，说明ＭＭＩ型光功分器的制作可以采用方便的湿法刻蚀，在器件成本降低的同时其精度也得到改善。
弱限制MMI型光功分器
【摘 要】
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本文采用导模数值计算法对ＭＭＩ（多模干涉）型光功分器ＳＩＥ干涉区内的导模进行计算并对输出波导位置进行优化，证明在一定条件的弱限制下器件的插入损耗和输出均匀度均超过强限制的情况，说明
【机 构】
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浙江大学信息与电子工程学系
【出 处】
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电子学报
【发表日期】
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2000年11期
【基金项目】
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国家自然科学基金! (No .696770 1 2 ) ,,国家重点基础研究发展规划项目! (No .G1 9990 331 0 4 ) ,,浙江大学硅材料国家重点实验室开
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