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光学薄膜的缺陷是光学系统性能提高的瓶颈, 一直是实验和理论研究的重点。选取电子束蒸发工艺制备光学多层膜的典型缺陷, 用扫描电子显微镜(SEM)测试了表面缺陷的形貌、成分。膜料选取：TiO2,SiO2。结果表明, 结瘤缺陷在薄膜表面呈球冠状, 成分为Ti,Si的氧化物; 膜料喷溅颗粒未被完全包覆, 或者不稳定吸附物崩落后形成的缺陷为凹坑状, 成分为Ti, Si的氧化物, 但是存在明显的Ti偏析; 有一种表面粘附缺陷呈现不规则胶体状, 碳含量明显偏高, 为有机物; 另一种粘附缺陷为带棱角块状, 成分为Ti, Si的氧化物, 与由结瘤形成的球状缺陷成分一致, 是膜层崩落粘附形成。