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采用直流磁控溅射工艺，在不同溅射压强条件下制备了薄膜太阳电池用金属Mo背电极。用场发射场发射扫描电子显微镜（FESEM）和四探针测试仪研究了溅射压强对薄膜的成膜速率和电学性能的影响。结果表明，较高溅射压强条件下，制得的薄膜电阻率较高，薄膜与衬底附着性能较好。随溅射压强减小，制备的薄膜电阻率降低，与衬底附着性较差。溅射过程中，改变溅射压强制备的双层Mo薄膜，能同时达到具有良好附着性和较低电阻率的要求，更适合做薄膜太阳电池背电极。