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研究了SiO2体系中去除金属和非金属杂质的方法．考察了浸出剂浓度、温度、反应时间、搅拌等因素的影响，采用ICP、SEM等对产品进行了表征，分析了不同工艺条件对杂质去除率的影响程度．当工艺条件为：w（HF）=1．0％与叫（HzCzO；）=1．5％在100℃温度下处理60-150目的石英粉4h，Fe、Ca和P的去除率分别达到了99．8％，72．7％和67．8％，湿法冶金可以去除SiO2中的绝大部分Fe杂质和大部分Ca和P杂质，反应前30rain为化学反应控制，后转为内扩散控制．