【摘 要】
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摘 要： 研究高反射、减反射薄膜的膜系设计、薄膜材料的选取以及薄膜的制备工艺。以GaAs为基底用TXX-700箱式真空镀膜机通过电子束真空蒸度技术制备出808-850nm波段的高反膜、增透膜。反射镜波长在808-850nm范围内，平均反射率R>99.9%；增透膜具有高透射性能，输出镜波长在808-850nm范围内，T>98%。 关键词： 半导体激光器；等离子体辅助电子束蒸发；高反膜 中图分类
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摘 要： 研究高反射、减反射薄膜的膜系设计、薄膜材料的选取以及薄膜的制备工艺。以GaAs为基底用TXX-700箱式真空镀膜机通过电子束真空蒸度技术制备出808-850nm波段的高反膜、增透膜。反射镜波长在808-850nm范围内，平均反射率R>99.9%；增透膜具有高透射性能，输出镜波长在808-850nm范围内，T>98%。
关键词： 半导体激光器；等离子体辅助电子束蒸发；高反膜
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