808nm大功率半导体量子阱激光器锁相列阵

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在材料研究和器件特性分析的基础上,采用分子束外延方法(MBE),成功地研制出低阈值电流密度、高量子效率、折射率缓变分别限制异质结单量子阱结构(GRIN-SCH-SQW)大功率半导体激光器锁相列阵,最大线性输出功率为1.5W(室温,连续),激射波长808±4nm,光-电转换效率最高达62%,器件寿命考核(25℃,CW)超过1000小时无明显退化。 On the basis of material research and device characterization, molecular beam epitaxy (MBE) has been successfully developed to lower the threshold current density, high quantum efficiency and slow refractive index to limit the structure of single quantum well (GRIN-SCH -SQW) high-power semiconductor laser phase-locked array, the maximum linear output power of 1.5W (room temperature, continuous), lasing wavelength 808 ± 4nm, light-to-electricity conversion efficiency up to 62% CW) No obvious degradation over 1000 hours.
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