离子选择电极法测定高硅铝合金中的微量硼

来源 :冶金分析与测试(冶金分析分册) | 被引量 : 0次 | 上传用户:z58119366
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本文用磷酸—氢氟酸溶样,溶样时加一定量的Cu~(+2)离子,作为溶解高硅试样的催化剂,以促进试样的迅速分解,在试样溶解过程中,硼即转化为氟硼酸根离子,因此可省去硼的氟化过程.以氢氟酸—EDTA为络合掩蔽剂时,对主体铝以及共存的16mg铜,5mg铁,6mg锰,4mg锑、钛、镁掩蔽效果良好.本方法不须分离.pH范围允许较宽.操作手续简便,快速.结果满意.适用于铝合金中0.001%以上硼的测定. In this paper, a sample of phosphoric acid-hydrofluoric acid was used as a sample to dissolve a certain amount of Cu ~ (+2) ions as a catalyst to dissolve the high silicon sample to promote the rapid decomposition of the sample. During the dissolution of the sample, boron Ie converted to fluoroborate ions, thus eliminating the need for the fluorination of boron.With hydrofluoric acid-EDTA as the complexing masking agent, 16 mg copper, 5 mg iron, 6 mg manganese, 4 mg antimony, titanium , Magnesium masking effect is good.This method does not need to be separated.PH range allows a wider.Processing is simple and fast.The results are satisfactory.Applicable to the determination of boron in 0.001% of aluminum alloy.
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