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CMOS器件X射线与γ射线辐照效应比较
CMOS器件X射线与γ射线辐照效应比较
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cclone
【摘 要】
:
介绍了低能X射线和γ射线的辐照剂量及器件阈电压漂移的测试方法.讨论了不同偏置条件和辐照方向对器件效应的影响.结果表明,对镀金Kovar合金封装的器件,在背向辐照的最劣辐照
【作 者】
:
何承发
巴维真
陈朝阳
王倩
【机 构】
:
中国科学院新疆物理研究所,新疆大学物理系
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
2001年10期
【关键词】
:
CMOS器件
X射线
Γ射线
剂量增强
辐照效应
辐照剂量
CMOS device
X ray
γ ray
Dose enhancement
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介绍了低能X射线和γ射线的辐照剂量及器件阈电压漂移的测试方法.讨论了不同偏置条件和辐照方向对器件效应的影响.结果表明,对镀金Kovar合金封装的器件,在背向辐照的最劣辐照偏置下,X射线产生的阈电压漂移是60Co γ射线的13.4倍.
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