【摘 要】
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利用脉冲激光沉积法在石英基底上沉积铜铟镓硒薄膜为前驱物,采用波长1 064 nm的近红外脉冲激光在不同能量密度下对其进行退火晶化.对薄膜的光学特性、晶体结构和形貌等进行表
【机 构】
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深圳大学物理科学与技术学院,深圳市传感器技术重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（61275125）,深圳市基础研究计划资助项目（JCYJ20120613112423982）,National Natural Science Foundation of China （61275125）, Bureau of Science Technology ＆ Information （JCYJ20120613112423982）
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利用脉冲激光沉积法在石英基底上沉积铜铟镓硒薄膜为前驱物,采用波长1 064 nm的近红外脉冲激光在不同能量密度下对其进行退火晶化.对薄膜的光学特性、晶体结构和形貌等进行表征分析,结果表明,随着激光能量密度增加,铜铟镓硒薄膜结晶度增加,晶粒尺寸变大,压应力减小,禁带宽度增加.当激光能量密度为325 mJ/cm2时,薄膜的结晶度达最高值29.46％,晶粒尺寸达最大为15.4 nm,压应力最小,薄膜结晶质量最好,过低和过高的能量密度都不利于薄膜的结晶.同时分析了高能量密度时薄膜表面条纹的形成机理.
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