射频磁控溅射制备Ba0．7Sr0．3TiO3薄膜的表面结构调控

来源 :稀有金属 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wuliaocanglang

【摘要】

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研究了Pt/Ti／SiO2／Si基片上制备Ba0.7Sr0．3TiO3（BST7／3）薄膜时，基片加热温度和溅射功率对薄膜显微形貌和成相的影响。实验结果表明：常温下低功率溅射的BST7／3薄膜，表面形貌非常平整，但为

【作者】

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王萍李弢谢波玮古宏伟

【机构】

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北京有色金属研究总院超导材料研究中心

【出处】

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稀有金属

【发表日期】

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2007年1期

【关键词】

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射频磁控溅射 Pt/Ti/SiO2/Si BST薄膜表面形貌 RF magnetron sputtering Pt/Ti/SiO2/Si substrate

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研究了Pt/Ti／SiO2／Si基片上制备Ba0.7Sr0．3TiO3（BST7／3）薄膜时，基片加热温度和溅射功率对薄膜显微形貌和成相的影响。实验结果表明：常温下低功率溅射的BST7／3薄膜，表面形貌非常平整，但为非晶态物质的堆积；400℃高功率150W溅射4h的BST薄膜，其最大表面起伏约为40nm；400℃低功率、长时间8h溅射的BST薄膜，其表面起伏约为12nm；说明在保证BST充分成相的前提下，可以通过控制溅射功率和时间调控BST薄膜的表面形貌，降低表面粗糙度，使之适于后续器件制备工艺。介电性能

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