【摘 要】
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本文引入描述分布反馈半导体激光器中光场纵向分布不均匀对其阈值条件影响的αp和δp因子.建立了包含空间烧孔效应的速率方程模型,并给出小信号强度、频率调制响应表达式.数值求解理想分布反馈半导体激光器的αthL和δL随平均光子密度变化曲线及对应的αp和δp因子.数值模拟表明,空间烧孔对调制特性影响甚大,频率调制相应与偏置电流有关,为得到较宽的调制频带必须适当选择工作点.
【机 构】
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东南大学电子工程系,南京210018
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本文引入描述分布反馈半导体激光器中光场纵向分布不均匀对其阈值条件影响的αp和δp因子.建立了包含空间烧孔效应的速率方程模型,并给出小信号强度、频率调制响应表达式.数值求解理想分布反馈半导体激光器的αthL和δL随平均光子密度变化曲线及对应的αp和δp因子.数值模拟表明,空间烧孔对调制特性影响甚大,频率调制相应与偏置电流有关,为得到较宽的调制频带必须适当选择工作点.
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