钛基片的化学机械抛光技术研究

来源 :摩擦学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wangyuan1984

【摘要】

：

采用化学机械抛光(CMP)方法对钛基片进行纳米级平坦化处理,通过系列抛光试验优化抛光液组成和抛光工艺条件后,得到AFM-Ra为0.159 nm的纳米级抛光表面和156.5 nm/min的抛光速

【作者】

：

戴媛静裴惠芳潘国顺刘岩

【机构】

：

清华大学摩擦学国家重点实验室; 深圳清华大学研究院;

【出处】

：

摩擦学学报

【发表日期】

：

2011年02期

【关键词】

：

钛基片化学机械抛光纳米级粗糙度抛光机理

【基金项目】

：

国家自然科学基金委员会与广东省政府自然科学联合基金重点项目(U0635002);国家自然科学基金项目(50775122);广东省自然科学基金项目(8251805701000001);国家高技术研究发展计划(863计划)(2009AA043101);创新群体项目(50721004)资助~~

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采用化学机械抛光(CMP)方法对钛基片进行纳米级平坦化处理,通过系列抛光试验优化抛光液组成和抛光工艺条件后,得到AFM-Ra为0.159 nm的纳米级抛光表面和156.5 nm/min的抛光速率.抛光液的电化学分析结果表明:二氧化硅颗粒和乳酸在钛表面有不同程度的吸附缓蚀作用,氨水和F-的络合、扩散作用能破坏缓蚀膜层,两者的中间平衡状态才能得到最佳抛光效果.抛光后钛表层XPS测试结果显示钛表层经过化学氧化形成疏松氧化层后,再通过磨粒和抛光垫的机械作用去除.

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