TiN、TiNC和TiC薄膜的制备及其性能研究

来源 :天津商学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：a13600660175

【摘要】

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用大功率偏压电源的多弧离子镀技术制备TiN、TiC和TiNC陶瓷薄膜.经AES分析测试,所制备的TiN、TiNC和TiC成分稳定,沿深度分布均匀.XRD分析表明,TiN和TiCN涂层的结构在TiN(111)

【作者】

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刘杨

【机构】

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天津商学院基础课教学部

【出处】

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天津商学院学报

【发表日期】

：

2005年3期

【关键词】

：

多弧离子镀薄膜耐磨性能 multi-arc ion plating coatings wearability

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用大功率偏压电源的多弧离子镀技术制备TiN、TiC和TiNC陶瓷薄膜.经AES分析测试,所制备的TiN、TiNC和TiC成分稳定,沿深度分布均匀.XRD分析表明,TiN和TiCN涂层的结构在TiN(111)晶面都有强烈的择优取向.TiC薄膜为非晶结构,表面形貌较粗糙且不均匀,膜层的宏观耐磨性能与其表面生成形貌有直接联系.

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