一种新型光致抗蚀剂——负性自增感光敏聚酰亚胺

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本文综述了一种新型光致抗蚀剂———负性自增感光敏聚酰亚胺的研究概况,着重论述了它的合成方法、感光机理、感度及其影响因素,以及新型二酐和二胺单体的开发情况。 This review summarizes the research progress of a new type of photoresist - negative self-sensitized photosensitive polyimide, focusing on its synthesis method, photosensitive mechanism, sensitivity and its influencing factors, as well as the new dianhydride and Development of diamine monomer.
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