电渗-帽封联用技术对底泥内源污染释放的阻控效果

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近年来关于河湖底泥内源污染的原位控制技术受到了广泛的关注和应用。本文针对水体底泥内源污染的释放问题,研究了“电渗-帽封”联合技术的控制效果。电渗处理试验结果表明,电压越高,电渗处理后底泥向上覆水中释放的氨氮量越低,但总磷释放量升高。后续的帽封试验结果表明,使用天然粗河砂效果最好,且帽封厚度越高,材料粒径越小,对污染物释放的控制效果越好。采用20V电渗电压预处理实际底泥,并采用3~5mm粒径的天然粗河砂作为帽封材料,在3cm帽封厚度条件下,对污染物释放的阻控效率可达到66.9%。本研究的结果表明,“电渗-帽
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反渗透(RO)/纳滤(NF)膜元件在长期运行过程中会不可避免地发生膜污染,当产水水质无法满足应用指标时,就需要对膜元件进行更换。膜剖检分析是研究和确定膜污染最直观有效的方法,通过膜剖检分析及膜污染诊断可以为膜元件的日常维护、膜系统运行优化和膜性能修复提供有效依据。但是,目前对于膜剖检分析的实践及膜污染诊断研究还不系统、不全面。本文针对RO/NF膜剖检分析及膜污染诊断相关研究,介绍了膜元件剖检分析流程和各类膜污染分析方法,分析了实际应用中存在的问题,并根据膜剖检分析的意义和价值,重点综述了膜污染成分诊断、膜
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