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Gigaphoton公司新近设计出一款输出功率为90W、重复频率为6000Hz的新型氟化氩（ArF）准分子激光器。该激光器可用于浸没式光刻机，其可使制作半导体晶片的制程仅为32nm。目前，全球芯片制造商刚开始将45nm制程技术投入量产，据估计32nm制程技术将于2009年投入使用。
ArF准分子光刻机使半导体制造工艺到达32nm Gigaphoton公司发布了用于下一代半导体制造的世界上最强大的氟化氩（ArF）准分子激光器
【摘 要】
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Gigaphoton公司新近设计出一款输出功率为90W、重复频率为6000Hz的新型氟化氩（ArF）准分子激光器。该激光器可用于浸没式光刻机，其可使制作半导体晶片的制程仅为32nm。目前，全球芯
【出 处】
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光机电信息
【发表日期】
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2008年1期
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