【摘 要】
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BiVO4/WO3异质结薄膜因其优异的光电催化活性,已成为光电催化领域的研究热点。然而,目前制备BiVO4/WO3异质结薄膜通常采用简单的沉积方法,制备的薄膜存在大量的晶隙和界面缺
【机 构】
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湖南科技大学化学化工学院理论有机化学与功能分子教育部重点实验室,湖南农业大学资源环境学院
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(21808051),湖南省自然科学基金资助项目(2017JJ3079),湖南省教育厅科学研究基金资助项目(17C0628),湖南科技大学博士启动基金资助项目(E51757)
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BiVO4/WO3异质结薄膜因其优异的光电催化活性,已成为光电催化领域的研究热点。然而,目前制备BiVO4/WO3异质结薄膜通常采用简单的沉积方法,制备的薄膜存在大量的晶隙和界面缺陷,不利于载流子在界面处的传输。本文利用WO3→Bi2WO6→BiVO4原位相转换的原理,成功制备BiVO4/WO3异质结薄膜。通过XRD和TEM等手段表征BiVO4/WO3异质结薄膜的结构,发现制备的薄膜存在晶隙和界面缺陷少的特点。以制备的薄膜为光阳极,通过光电化学测试,表明原位生长法制备的BiVO4/WO3薄膜的光电化学性能
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