高k栅介质纳米MOSFET栅电流模型

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yiyucanqing

【摘要】

：

介绍了一种纳米MOSFET（场效应管）栅电流的统一模型,该模型基于Schrodinger-Poisson方程自洽全量子数值解,特别适用于高k栅介质和多层高k栅介质纳米MOSFET.运用该方法计算了各种

【作者】

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王伟孙建平顾宁

【机构】

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东南大学生物电子学国家重点实验室,美国密西根大学电气工程和计算机科学系

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

2006年7期

【关键词】

：

高k 栅电流量子模型 high- k gate current quantum model

【基金项目】

：

Project supported by the National Natural Science Foundation of China（Nos. 60371037,20573019）国家自然科学基金资助项目（批准号：60371037,20573019）.

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介绍了一种纳米MOSFET（场效应管）栅电流的统一模型,该模型基于Schrodinger-Poisson方程自洽全量子数值解,特别适用于高k栅介质和多层高k栅介质纳米MOSFET.运用该方法计算了各种结构和材料高k介质的MOSFET栅极电流,并对pMOSFET和nMOSFET高k栅结构进行了分析比较.模拟得出栅极电流与实验结果符合,而得出的优化氮含量有待实验证实.

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