中频交流反应溅射TiO2薄膜制备及光催化性能研究

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：vingf

【摘要】

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利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜, 利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌, 并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现

【作者】

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侯亚奇张弓庄大明吴敏生

【机构】

：

清华大学机械工程系

【出处】

：

无机材料学报

【发表日期】

：

2004年5期

【关键词】

：

TIO2薄膜中频交流磁控溅射光催化降解亚甲基蓝甲基橙 titanium oxide thin film mid-frequency AC magnetr

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利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜, 利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌, 并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现:利用Ar/O2混合气体反应溅射纯Ti靶制备的TiO2薄膜符合化学计量比, 呈现柱状生长.TiO2薄膜均为锐钛矿相, 晶粒随薄膜厚度增加逐渐长大.制得的TiO2薄膜对亚甲基蓝、甲基橙和敌敌畏都具有确实的光催化降解效果, 同时具有很好的光催化性能稳定性.

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