【摘 要】
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使用TiAl合金靶,利用中频反应磁控溅射系统,通过交替改变氮气流量的方法,在高速钢（W18Cr4V）基体上沉积了氮含量周期性改变的AlTiN多层薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电
【机 构】
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北京科技大学材料物理与化学系,北京航空材料研究院,燕山大学材料科学与工程学院
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使用TiAl合金靶,利用中频反应磁控溅射系统,通过交替改变氮气流量的方法,在高速钢（W18Cr4V）基体上沉积了氮含量周期性改变的AlTiN多层薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电镜（FE-SEM）和高分辨透射电镜（HRTEM）等方法研究了AlTiN多层薄膜微观组织和结构;AlTiN多层薄膜的力学以及膜基结合性能用纳米压痕硬度仪和划痕试验得到。结果表明,制备的AlTiN薄膜,尽管交替的两层中氮含量不同,但每一单层都为非晶包裹纳米晶的纳米复合结构,所不同的是,低氮含量层中纳米晶密度较小。多层结构的
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