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着重介绍热壁ＬＰＣＶＤ（ＨＷＬＰＣＶＤ）的特点、改善薄膜均匀性的措施，对ＣＣＤ转移效率的影响以及在非致冷微测辐射热计中的应用。
硅CCD和红外CCD研制中的HWLPCVD技术
【摘 要】
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着重介绍热壁ＬＰＣＶＤ（ＨＷＬＰＣＶＤ）的特点、改善薄膜均匀性的措施，对ＣＣＤ转移效率的影响以及在非致冷微测辐射热计中的应用。
【机 构】
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重庆光电技术研究所
【出 处】
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四川真空
【发表日期】
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1999年1期
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