【摘 要】
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对晶格与 In P匹配的 In Ga As P超晶格结构外延片 ,运用等离子增强化学气相沉积法镀Si O2 膜 ,随后用碘钨灯快速热退火 ,进行无杂质空位扩散 ( IFVD)技术的实验研究 ,测量光
【机 构】
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对晶格与 In P匹配的 In Ga As P超晶格结构外延片 ,运用等离子增强化学气相沉积法镀Si O2 膜 ,随后用碘钨灯快速热退火 ,进行无杂质空位扩散 ( IFVD)技术的实验研究 ,测量光致发光谱后得到了最大 50 nm的峰值位置蓝移 ;表明在没有掺杂和没有应变的情况下 ,IFVD仍有较好的处理量子阱材料的能力 .对影响 IFVD工艺的重复性因素进行了探讨 .
For In Ga As P superlattice structure epitaxial wafers with In P matched with In P, Si O 2 films were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition followed by rapid thermal annealing with iodine-tungsten lamp for IFVD Experimental results show that the peak position of maximum 50 nm is blue-shifted after measuring the photoluminescence spectra, indicating that IFVD has better capability of processing quantum well material without doping and without strain. Repeatability factors were discussed.
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