论文部分内容阅读
采用多源PVD技术在YG8硬质合金基体上分别沉积了TiN和TiN，薄膜，利用x射线衍射仪、扫描电子显微镜以及多功能材料表面试验仪，研究了多种元素的添加对TiN涂层微观结构、断口和表面形貌的影响。结果表明：添加多种元素可使TiN涂层的微观结构发生明显变化，能有效控制膜的结晶和生长模式，改变传统的（111）面的单一取向，从原来的（111）的择优取向，转变为（200）、（111）、（220）共同取向；TiN，涂层的断口呈非柱状结构，表面粗糙度小于TiN，具有更为均匀致密的结晶结构和光整的表面形貌，趋于TiAlN