论文部分内容阅读
开展了平面靶溅射法制备YBa2Cu3O7-8（YBCO）高温超导薄膜工艺研究，以达到提高沉积速率的目的。通过增加工作气体总压（Pt），采用基片旋转达到离轴溅射模式，有效地克服了传统平面靶直流溅射法中高能粒子轰击和负离子反溅射现象。在两英寸LaAlO3（LAO）基片上成功外延生长得到了微观结构良好、电学性能优越（临界电流密度Jc=2．3／2．OmA／cm^2）的双面YBCO高温超导薄膜。