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本文综述了反应磁控溅射技术的发展状态.分析了迟滞效应以及消除该效应的方法.这些方法.采用单极或双极脉冲技术可以有效的削除孤光现象.最后展望了反应磁控溅射的发展趋势.
反应磁控溅射研究进展
【摘 要】
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本文综述了反应磁控溅射技术的发展状态.分析了迟滞效应以及消除该效应的方法.这些方法.采用单极或双极脉冲技术可以有效的削除孤光现象.最后展望了反应磁控溅射的发展趋势.
【机 构】
：
辽宁石油化工大学机械工程学院,辽宁,抚顺,113001东北大学机械工程与自动化学院,辽宁,沈阳,110004;
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2008年3期
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