大尺寸氧化锌单晶的生产

来源 :液晶与显示 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ddnihaoba
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
日本东京电波公司开发生产出大尺寸氧化锌单晶。氧化锌单晶是蓝光LED的重要材料,以前制作蓝光LED均采用蓝宝石作为LED基板,现在改成氧化锌单晶作为蓝光LED基板,不仅蓝光LED的发光亮度提高了3、4倍,而且制造成本降低一半。这将促进发展蓝光LED和白光照明产业。
其他文献
对在氢化非晶硅薄膜(a-Si:H)上溅射金属Ni的样品进行金属诱导晶化(MIC)/金属诱导横向晶化(MILC),制备多晶硅薄膜(p-Si)的工艺及薄膜特性进行了研究.XRD测量结果表明非晶硅在5
在单一弹性常数近似下.利用φ映射方法和拓扑流理论研究了液晶中向错线对自由能密度的影响。指出自由能密度可以分为两部分.一部分是通常的液晶指向矢场在向错线周围的畸变能密
以铟、锡氯化物为前驱物,采用溶胶-凝胶法在玻璃基体上制备不同锡掺杂的ITO膜,在热处理温度为450℃条件下制备不同锡掺杂(质量分数11%~33%)的ITO膜,研究锡掺杂对ITO膜方阻和结构特性
日本东海大学开发了仅在500℃下用高频等离子来生长碳纳米管(CNT)的大面积薄膜的技术。该技术是先在基板上溅射铁催化剂膜,然后用红外线加热基板,并同时以13.56MHz高频等离子体
介绍了LED显示屏显示信息生成的一般实现方法,分析了常用的显示图片拷屏法的局限性,即存在图片拷屏失误的情况,并给出该方法下避免失误的对策。从分析问题出现的原因入手,提
利用Monte Carlo方法模拟平行基板间液晶薄层的指向矢分布.在基板表面处,液晶薄层受到表面作用势的作用使液晶分子沿面平行排列,采用Lebwohl-Lasher模型,将分子质心固定在简
期刊
利用脉冲激光烧蚀技术在硅衬底上制备了类石墨薄膜,以该薄膜为阴极进行了场致电子发射实验。当在阴阳极之间加电场后,两极之间出现了放电现象。放电之后.类石墨薄膜的阈值电场大
制作了在N,N'-diphenyl-N,N'-bis-1-naphthyl)-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine(NPB)和aluminium tris-8-hydroxy-quinoline(Alq3)中分别掺杂黄色荧光染料5,6,11,12,-tetraphenylnaphthacene(Rubren
近期三星电子开发了透过性塑料衬底TFT-LCD样品。其样品尺寸为12.7cm(5in),分辨率为400×300RGB,像素密度为100ppi。该公司独自开发了彩色TFT-LCD低温整套工艺技术,其中包括