Al2O3高k栅介质的可靠性

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：SuperXF

【摘要】

：

利用反应溅射方法制备了等效氧化层厚度为3．45nm的Al2O3栅介质MOS电容，研究了Al2O3作为栅介质的瞬时击穿和恒压应力下的时变击穿等可靠性特征．击穿实验显示，样品的Al2O3栅介质的

【作者】

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杨红康晋锋韩德栋任驰夏志良刘晓彦韩汝琦

【机构】

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北京大学微电子所

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

2003年9期

【关键词】

：

高k栅介质可靠性时变击穿

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利用反应溅射方法制备了等效氧化层厚度为3．45nm的Al2O3栅介质MOS电容，研究了Al2O3作为栅介质的瞬时击穿和恒压应力下的时变击穿等可靠性特征．击穿实验显示，样品的Al2O3栅介质的等效击穿场强大小为12.8MV／cm.在时变击穿的实验中，Al2O3栅介质表现出类似于SiO2的软击穿现象．不同栅压应力作用的测试结果表明，介质中注入电荷的积累效应是引起软击穿的主要因素，其对应的介质击穿电荷QBD约为30～60C／cm^2．

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