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用循环伏安法和方波伏安法研究了铜离子在4-甲氧基-2,6-二(3,5-二甲基吡唑)-1,3,5-三嗪(简称MBDT)吸附型修饰电极上的电化学行为.通过吸附在玻碳表面的配体与铜离子的配位作用,对Cu(Ⅱ)和Cu(Ⅰ)进行了电分析,结果表明,Cu(Ⅰ)在修饰电极上表现出比Cu(Ⅱ)高得多的灵敏度.
铜离子在4—甲氧基—2，6—二（3，5—二甲基吡唑）—1，3，5—三嗪吸附型修饰电极上的电化学行为
【摘 要】
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用循环伏安法和方波伏安法研究了铜离子在4-甲氧基-2,6-二(3,5-二甲基吡唑)-1,3,5-三嗪(简称MBDT)吸附型修饰电极上的电化学行为.通过吸附在玻碳表面的配体与铜离子的配位作
【机 构】
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西北师范大学,西北师范大学
【出 处】
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西北师范大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2003年3期
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