论文部分内容阅读
采用GDARE法在较低温度下，通过一次和多次沉积制备单层及多层ZnO薄膜．AFM和XRD分析表明，薄膜具有以ZnO（002）晶面取向为主的多晶结构，多层膜的晶粒尺寸增大．经200～300℃退火热处理，薄膜呈现出良好的低压压敏特性．经200℃退火热处理后，多层ZnO薄膜的非线性系数达到61．54，压敏电压20.10V.在一定范围内升高热处理温度，可明显降低压敏电压．分析了不同膜层及热处理温度对ZnO薄膜压敏特性的影响机理.