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微束斑X射线源电子光学系统设计与数值模拟
微束斑X射线源电子光学系统设计与数值模拟
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sunj2009
【摘 要】
:
首先给出了采用场致发射阴极的微束斑X射线源电子光学系统结构,然后利用数值模拟的方法对该系统进行了计算与分析,最终获得了一发射电流约为80μA,束斑半径约为3.2μm的微束斑X射
【作 者】
:
刘记
范玉锋
【机 构】
:
西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
2008年5期
【关键词】
:
微束斑X射线源
数值模拟
结构优化
电子光学系统
Micro-beam X-ray source Numerical simulation Structure
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首先给出了采用场致发射阴极的微束斑X射线源电子光学系统结构,然后利用数值模拟的方法对该系统进行了计算与分析,最终获得了一发射电流约为80μA,束斑半径约为3.2μm的微束斑X射线源电子光学系统优化结构。该结构制作简单、体积小,可供制作微束斑X射线源时选用。
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