【摘 要】
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用激光分子束外延（Laser Molecular Beam Epitaxy,L-MBE）设备在p型Si（111）衬底上制备了不同衬底温度和不同氧压的ZnO薄膜,用X射线衍射仪（XRD）和原子力显微镜（AFM）分别对薄膜的结构和
【机 构】
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鲁东大学物理学院,海军航空工程学院
【基金项目】
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山东省自然科学基金资助项目（J08LI04）, 海军航空工程学院基础研究基金资助项目（HYJC2010022）
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用激光分子束外延（Laser Molecular Beam Epitaxy,L-MBE）设备在p型Si（111）衬底上制备了不同衬底温度和不同氧压的ZnO薄膜,用X射线衍射仪（XRD）和原子力显微镜（AFM）分别对薄膜的结构和形貌进行了分析,用He-Cd激光（325nm）激发的光致发光测试系统对薄膜进行了荧光光谱分析。研究发现,在衬底温度为400℃,氧压1Pa左右所制备的ZnO薄膜表面比较均匀致密,晶粒生长较充分,有较高的结晶质量和发光强度。ZnO薄膜的近带边发射与薄膜的结晶质量和化学配比均有关系。
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