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本发明涉及一种太阳能单晶硅片的清洗工艺，其特征在于将太阳能单晶硅片依次经过喷淋、脱胶、自来水漂洗、清洗剂超洗、纯水漂洗工序，之后，先在离子水和氢氟酸的混合液中浸泡一定时间，
一种太阳能单晶硅片的清洗工艺
【摘 要】
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本发明涉及一种太阳能单晶硅片的清洗工艺，其特征在于将太阳能单晶硅片依次经过喷淋、脱胶、自来水漂洗、清洗剂超洗、纯水漂洗工序，之后，先在离子水和氢氟酸的混合液中浸泡一定
【出 处】
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清洗世界
【发表日期】
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2011年12期
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