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掩模硅片自动对准误差校正算法
掩模硅片自动对准误差校正算法
来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:greatbear1
【摘 要】
:
为了改善对准精度,对100 nm级线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴离轴混合对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中.掩模硅片自动对准算法决定机器坐
【作 者】
:
梁友生
曹益平
周金梅
邢廷文
【机 构】
:
四川大学光电科学技术系,四川大学光电科学技术系,中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2005年1期
【关键词】
:
光学光刻
掩模硅片
对准
对准模型
最小二乘法
photolithographyreticle-waferalignmentalignment modellea
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为了改善对准精度,对100 nm级线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴离轴混合对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中.掩模硅片自动对准算法决定机器坐标系、掩模坐标系、硅片坐标系相互的位置关系,可很好地校正由掩模硅片引起的平移、线变、旋转、正交性的偏差.
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