【摘 要】
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TSMC4月7日宣布针对65nm、40nm及28nm工艺推出已统合且可交互操作的多项电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)技术档案。这些与设计相关的技术档案套装包括可互
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TSMC4月7日宣布针对65nm、40nm及28nm工艺推出已统合且可交互操作的多项电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)技术档案。这些与设计相关的技术档案套装包括可互通的工艺设计套件(iPDK)、工艺设计规则检查(iDRC)、集成电路布局与电路图对比(iLVS)及工艺电容电阻抽取模组(iRCX)。
TSMC announced on April 7 the release of a number of integrated and interoperable Electronic Design Automation (EDA) archives for 65nm, 40nm and 28nm processes. These design-related technology files include iPDK, iDRC, iLVS and iRCX.
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