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喷镀法制备纳米厚度CdS薄膜
喷镀法制备纳米厚度CdS薄膜
来源 :电源技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:h725bin
【摘 要】
:
介绍了采用喷镀的方法制备纳米厚度的Cd S薄膜。研究喷镀法制备Cd S薄膜过程中的一系列反应机理和影响因素,着重研究在喷镀过程中,装置的设计、温度的控制及时间的选取。经过
【作 者】
:
李巍
王赫
乔在祥
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第十八研究所化学与物理电源技术重点实验室
【出 处】
:
电源技术
【发表日期】
:
2015年9期
【关键词】
:
喷镀法
硫化镉
铜铟镓硒
太阳电池
spray plating CdS Culn1-xGaxSe2 solar cell
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介绍了采用喷镀的方法制备纳米厚度的Cd S薄膜。研究喷镀法制备Cd S薄膜过程中的一系列反应机理和影响因素,着重研究在喷镀过程中,装置的设计、温度的控制及时间的选取。经过实验比较得到喷镀法制备Cd S薄膜较佳的实验条件。
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