【摘 要】
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介绍了一种基于UV-LIGA加工技术的双稳态电磁型RF MEMS开关,该结构由于使用了永磁体单元而使得开关在维持'开'或'关'态时不需要功耗,利用牺牲层UV-LIGA技术
【基金项目】
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信息产业部电科院预研资助项目(41308050116),上海市重点实验室专项基金资助项目(05DZ22309),上海-应用材料研究发展基金资助项目(06SA11),上海交通大学优秀博士学位论文基金
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介绍了一种基于UV-LIGA加工技术的双稳态电磁型RF MEMS开关,该结构由于使用了永磁体单元而使得开关在维持'开'或'关'态时不需要功耗,利用牺牲层UV-LIGA技术实现了开关的微制作.非接触式Wyko NT1100光学轮廓仪的测试表明,制备的开关实现了双稳态驱动功能,驱动脉冲电流50 mA,驱动行程17 μm,响应时间20 μs;开关完成一次驱动姿态转换所需要的功耗不到3 μJ.AGILENT 8722ES型S参数网络分析仪的测试表明,开关在12 GHz时的插入损耗为
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