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研究了射频磁控溅射的Pb（Zr0.52Ti0.48）O3（PZT52/48）薄膜在退火晶化时,厚度对其结晶态及表面形貌的影响。首先利用Materials Studio软件对PZT分子进行了模拟,并模拟了X射线衍射（XRD）得到PZT的特征峰图;实验上,采用退火炉对不同厚度的PZT（52/48）薄膜进行了不同温度及时间的退火;接着采用XRD对各样片薄膜进行了结晶物相分析;采用FIB对部分样片薄膜表面形貌进行了观察。实验结果显示,薄膜的厚度及退火条件在一定程度上对其结晶态的影响是一致的;对于一定厚度的薄膜,合