DND@CeO_(2)核壳型磨料的制备及其在蓝宝石表面的抛光机理研究

来源 :矿冶工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：huhuairen

【摘要】

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采用原位化学沉淀法,将氧化铈(CeO2)包覆于爆轰纳米金刚石(DND)颗粒上,制得DND@CeO2复合磨料。复合磨料的最佳抛光工艺参数为:抛光压力4 kg、抛光盘转速120 r/min、抛光液流

【作者】

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周晨许向阳林顺天姚云飞

【机构】

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中南大学资源加工与生物工程学院,矿物材料及其应用湖南省重点实验室

【出处】

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矿冶工程

【发表日期】

：

2021年2期

【关键词】

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复合磨料纳米金刚石氧化铈化学机械抛光蓝宝石抛光磨料

【基金项目】

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矿物材料及其应用湖南省重点实验室开放课题(MMA201701)。

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采用原位化学沉淀法,将氧化铈(CeO₂)包覆于爆轰纳米金刚石(DND)颗粒上,制得DND@CeO₂复合磨料。复合磨料的最佳抛光工艺参数为:抛光压力4 kg、抛光盘转速120 r/min、抛光液流量70 mL/min、抛光液质量浓度1%、抛光液pH=10,此条件下复合磨料最大材料去除率可达73.26 nm/min,且抛光后的蓝宝石表面粗糙度可达4.47 nm,较CeO₂(粗糙度17.21 nm)和DND磨料(粗糙度24.1 nm)更优。分析抛

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