光刻胶：国产化势不可挡

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【摘要】

：

<正>光刻胶是在微电子制造业中实现精细线路及图形加工工艺的核心材料。光刻技术利用光刻胶在辐射前后溶解度的差异来转移图案,不同光刻胶及曝光光源的组合会得到不同精细度

【作者】

：

马太

【机构】

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长江证券

【出处】

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股市动态分析

【发表日期】

：

2017年41期

【关键词】

：

光刻胶内资企业

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<正>光刻胶是在微电子制造业中实现精细线路及图形加工工艺的核心材料。光刻技术利用光刻胶在辐射前后溶解度的差异来转移图案,不同光刻胶及曝光光源的组合会得到不同精细度的线路图形,目前分辨率最高可达纳米级。根据应用领域分类,光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶等。全球总需求不断增长中国产业信息网数据显示,2015年全球光刻胶市场规模为73.6亿美

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