软X射线投影光刻原理装置的设计

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介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软X射线投影光刻技术的特性,并介绍了软X射线投影光刻原理装置的研制工作.该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的Schwarzchild This paper introduces the development of projection lithography, its trend, the characteristics of soft X-ray projection lithography, and introduces the development of soft X-ray lithography principle device.This device consists of laser plasma source, grazing incidence ellipsoid condenser , Transmission mask, Schwarzchild coated with multilayer film
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