JESSI展望光学光刻前景

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JESSI展望光学光刻前景欧洲日致力于JESSI计划的实施,因此可望在光学光刻领域的前景比日本和美国更为广阔。JESSI计划亚微米工艺负责人J.P.Klein说,光学光刻将在下个世纪得到更好的应用,这将抑制了与电子束和X射线光刻配套的高投资设备及其相... JESSI OUTLOOK OPTICAL LITHOGRAPHIC PROSPECTS European Day is dedicated to the implementation of the JESSI program and is therefore expected to have broader prospects in the field of optical lithography than Japan and the United States. JESSI Project Manager, Submicron Process J. P. Klein said that optical lithography will be better applied in the next century, which will curb the high investment equipment and its associated with electron beam and X-ray lithography ...
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